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  • 表面改性疏水處理設(shè)備
    表面改性疏水處理設(shè)備用蒸汽涂覆（Vapor Prime）將 疏水劑均勻覆蓋在產(chǎn)品表面；
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    2025-09-17
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  • JS-HMDS30實(shí)驗(yàn)室HMDS專用烘箱 小型HMDS處理烤箱
    實(shí)驗(yàn)室HMDS專用烘箱 小型HMDS處理烤箱解決光刻膠附著力不足問題,同時(shí)增強(qiáng)光刻圖形的完整性.
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  • JS-HMDS1000大型HMDS真空烘箱，4門HMDS真空烤箱
    大型HMDS真空烘箱，4門HMDS真空烤箱 是半導(dǎo)體光刻工藝中的關(guān)鍵設(shè)備，主要用于基片表面預(yù)處理，通過六甲基二硅氮烷（HMDS）涂布增強(qiáng)光刻膠與基片的黏附性。
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  • JS硅烷沉積設(shè)備 抗粘劑蒸鍍系統(tǒng) 納米抗粘設(shè)備
    硅烷沉積設(shè)備 抗粘劑蒸鍍系統(tǒng) 納米抗粘設(shè)備通過表面修飾的模板,可以大大降低模板與壓印聚合物層之間的相互作用力,在納米壓印過程中實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)較好的轉(zhuǎn)移,復(fù)制.
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  • JS抗黏劑蒸鍍機(jī) 抗粘劑涂膠機(jī) 硅烷氣相鍍膜機(jī)
    抗黏劑蒸鍍機(jī) 抗粘劑涂膠機(jī) 硅烷氣相鍍膜機(jī)通過精確控制烘箱溫度（100-200℃）、處理時(shí)長(zhǎng)及保持時(shí)間等參數(shù)，使氮烷（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三氯硅烷）沉積在襯底表面，生成疏水性的保護(hù)層，，將親水基片轉(zhuǎn)化為疏水性。該過程有效增大處理后的基片接觸角，減少光刻膠使用量約30%，同時(shí)提升膠層與基片的黏附強(qiáng)度?。
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